无尘洁净室主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之---的洁净度日及温湿度，使产品能在一个---之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘洁净室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。

    无尘洁净室是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、---等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予---设计建成的无尘洁净房间。

  每立方米将小于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的a型级别。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于a型级别，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1k级别。

    我国的洁净室工程开始于20世纪60年代初，在70年代电子工业洁净室---是半导体集成电路用洁净室的规划、建造开展很快，相继建成一批洁净厂房，并研制成功100级单向流洁净室;与此同时，洁净厂房用设备和资料，如过滤器，洁净工作台、层流罩、洁净烘箱、空气吹渊室、净化型传递窗等相继研制成功，并投入出产，虽然制作和某些工程指标与水平尚有差距，但已能满足国内部分需求，到20世纪70年代末我国洁净室规 划、建造和洁净工程的开展走向成熟阶段。